عناصر مشابهة

حساب معامل سيباك لأغشية CdSe المحضرة بمعدلات ترسيب مختلفة

تفصيل البيانات البيبلوغرافية
المصدر:مجلة كلية التربية
الناشر: الجامعة المستنصرية - كلية التربية
المؤلف الرئيسي: سلطان، مرتضى فائز (مؤلف)
مؤلفين آخرين: أحمد، بيداء محسن (م. مشارك), نايف، حنان عودة (م. مشارك)
المجلد/العدد:ع1
محكمة:نعم
الدولة:العراق
التاريخ الميلادي:2009
الصفحات:778 - 783
ISSN:1812-0380
رقم MD:677813
نوع المحتوى: بحوث ومقالات
قواعد المعلومات:EduSearch
مواضيع:
رابط المحتوى:
الوصف
المستخلص:في هذا البحث تم تحضير أغشية CdSe على قواعد زجاجية بطريقة التبخير الحراري في الفراغ وبسمك (360nm) وترسيب nm/s(0.4, 0.8, 1.2) ودرجات حرارة أساس مختلفة K (300, 373, 423, 473) وحساب القدرة الكهروحرارية لهذه الأغشية (معامل سيباك) وطاقة التنشيط وقد تبين أن جميع الأغشية وبكافة معدلات الترسيب هي من نوع (n- type) وأن طاقة التنشيط تزداد مع زيادة كل من معدل الترسيب وزيادة درجة الحرارة الأساس عدا الأغشية المحضرة بمعدل ترسيب 0.8 nm/s ودرجات أساس 423 K والأغشية المحضرة بمعدل ترسيب ((1.2nm/s ودرجات حرارة أساس (423, 473 K) فقد كان من نوع P- type .

In this paper CdSe thin films have been prepared deposited on glass substrate by thermal evaporation technique at thickness 250nm with different depositions rate (0.4,0.8,1.2)nm/s and substrate temperatures (Ts) (300,373,423,473)K. thermoelectric power were measured to this films (Seebak coefficient) and activation energy were evaluated, the results shows that all films were of n-type conductivity and activation energy increases with depositions rate and substrate temperate films prepared at 0.8nm/s with Ts 423K and 1.2nm/s with Ts (423,473)K, except that they were of p-type conductivity.