عناصر مشابهة

Single Layer Anti-Reflection Coating for near Infrared Region

تفصيل البيانات البيبلوغرافية
المصدر:مجلة كلية التربية
الناشر: الجامعة المستنصرية - كلية التربية
المؤلف الرئيسي: Iltaif, Abd Alhussain K. (مؤلف)
مؤلفين آخرين: Khudiar, A. I. (co-Auth), Thieban, S. S. (co-Auth)
المجلد/العدد:ع 3
محكمة:نعم
الدولة:العراق
التاريخ الميلادي:2008
الصفحات:726 - 732
ISSN:1812-0380
رقم MD:426500
نوع المحتوى: بحوث ومقالات
قواعد المعلومات:EduSearch
مواضيع:
رابط المحتوى:
LEADER 03475nam a22002297a 4500
001 1076140
044 |b العراق 
100 |9 34961  |a Iltaif, Abd Alhussain K.  |e Author 
245 |a Single Layer Anti-Reflection Coating for near Infrared Region 
260 |b الجامعة المستنصرية - كلية التربية  |c 2008 
300 |a 726 - 732  
336 |a بحوث ومقالات 
500 |a أصل المقال المنشور باللغة الإنجليزية  
520 |a تم في هذا البحث استخدام طريقة الترسيب الحراري لترسيب طبقه مفرده من أوكسيد السليكون على قواعد من السليكون النقي والمشوب كطلاء مضاد للانعكاس ضمن المدى الموجي (3-1) مايكروميتر وبسمك للطبقة المرسبة 233.6 نامومتر وبمعدل ترسب 0.5 تامومتر/ ثابتة ، وكانت اعظم نفاذية عند الطول الموجي ٧, ١ مايكروميتر هي 82% بالنسبة للسليكون النقي بينما للسليكون المشوب تكون (%61، %56، %50) وباسماك (1.5, 1، 0.5) مليميتر على التوالي. كذلك تم دراسة قابلية تحمل هذه النوافذ باستخدام منظومة ليزر نديميوم - زجاج عالي القدرة (١٠ جول) وعرض نبضة ٣٠٠ مايكروثانية ولاختبارات متعددة. في الاختبار الأول تم استخدام شدة طاقة مختلفة ولضربة واحدة وكانت عتبة تلف الغشاء ذي الطبقة الواحدة 7.34 جول /سم2 .بينما في الاختبار الثاني تم استخدام نفس الطاقة بعدد مختلف من الضربات حتى الوصول إلى عتبة التلف. حيث إن الفاصلة الزمنية بين ضربة وأخرى 5 ثانية.  |b Thermal evaporation method was employed to deposit silicon monoxide (SiO) as a single layer anti-reflection coating (ARC's) in the near IR region 1-3) um.SiO deposited on both sides with two types of Si substrates intrinsic and extrinsic. The film thickness was 233.6 nm and the deposition rate 0.5 nm/s. The maximum transmittance at 1.7 um for the intrinsic type increase to 82%, while for extrinsic Si substrate with thickness) 0.5,1,1.5( mm increase to (61%,56?%.50%) respectively. The toleration of the prepared films was studies using Nd-glass laser system output energy 10 J, pulse duration nearly 300 us using different tests. In the first test, different energy density for a single shot was used to determine the damage threshold which was 7.34 j/cm2 . In the second test ,the same energy was used (less than the damage threshold) but with different number of shots until the damage threshold was reached . The time interval between shoots was 5 Sec . 
653 |a الأغشية الرقيقة   |a مستخلصات الأبحاث   |a الفيزياء   |a طريقة الترسيب الحراري   |a أوكسيد السيلكون   |a الأطوال الموجية   |a منظومة الليزر  
700 |9 37356  |a Khudiar, A. I.  |e co-Auth 
700 |9 50057  |a Thieban, S. S.  |e co-Auth 
773 |4 التربية والتعليم  |6 Education & Educational Research  |c 045  |l 003  |m ع 3  |o 1151  |s مجلة كلية التربية  |t Journal of Faculty of Education  |v 008  |x 1812-0380 
856 |u 1151-008-003-045.pdf 
930 |d n  |p y 
995 |a EduSearch 
999 |c 426500  |d 426500